全部產品介紹

NIKON LV150 ECLIPSE顯微鏡主體已經模組化，以滿足工業顯微鏡的各種應用領域
包括半導體器件，封裝，FPD，電子元件，材料和精密模具。
日本光學大廠品牌，已廣泛使用於各產業，品質保證效果優良
品牌 : Nikon
目鏡倍率 : 10X
物鏡倍率 : 5X , 10X , 20X , 50X , 100X(選購)
成像倍率 : 50X~1,000X
觀察模式 : 明視野 , 暗視野
載物台尺寸 : 6X6吋(6吋晶圓旋轉台)
可外接CCD(相機),影像儲存與尺寸量測

AIXON MR3020全自動影像量測儀
1. 量測範圍(Measuring Area) X,Y,Z=300*200*150(mm)
2. 光學尺解析 三軸光學尺。(Resolution) ≦ 0.0001mm
3. 三軸伺服馬達。
4. 量測精度(Accuracy) E2=(2+L/200)um
5. 影像系統(Vision) 200萬像素，數位color camera
6. 光源(illumination) 上、下、同軸三種種光源，可控制光源亮度。
7. 三軸移動(Driver) 三軸全自動，搖桿控制。
8. 鏡頭(LENS) POMEAS十段式AUTO ZOOM (20X~250X)。
9. 搭配AIX全自動專業影像量測儀。
10. WIN 10/11 軟體皆可。

一，XE-08 機台 商品說明:
1. 機械平台: FOR 8吋平台，移動行程 203 *203(mm)
2. 光學系統 : 三眼式觀察頭(明視野,偏光觀察) 瞳孔距離範圍55-75mm。
3. 目鏡 : WF10/22超高眼點目鏡。
4. 物鏡 : 明視野半複消色差金相物鏡
M Plan 5XB NA 0.12 WD 26mm
M Plan 10XB NA0.25 WD 20mm
M Plan 20XB NA0.40 WD 8.5mm
M Plan 50XB NA0.0.7 WD 3.6mm
5. 鼻輪 : 明視野手動鼻輪。
6. 調焦裝置 同軸粗細微調,精度0.002mm (附限位裝置)。
7. 表面光,底部光LED 。

可進行:
3D顯示,3D剖面, 3D模型角度和半徑量測, 體積和面積量測,粗糙度, 點高度量測功能
易用的2D和3D拼接

高品質的多元觀察方式完美的成像效果及高精準的測量模式
自動對接-多交點景深融合
超快速自動對焦和多焦點景深合成。憑藉我們優秀的高速移動演算法以及高精度Z軸解析度，
只需要簡單操作就可以得到一張全焦點範圍內都清晰的大景深樣品圖片
XYZ三軸電動移動方式，可以進行全自動拼接，精度高。

顯微鏡規格
鏡筒 三眼式觀察頭，瞳孔距離範圍52-76mm
目鏡 WF10X高眼點目鏡
物鏡 1.0X~6.5X Zoom式鏡頭(帶定格)
觀察倍率 10X~65X (標準配備)
綜合倍率 選配目鏡和輔助鏡可況展至5X-390X
調焦裝置 粗調節輪，調焦行程51mm
平台尺寸 295x280mm (扇形標準配備)
工作距離 118mm C接口
標配0.5X Cmount
選配 SWF/20X目鏡，目鏡刻劃片，各式移動台，
各式LED燈，
0.5X輔助鏡WD:195mm
2X輔助鏡WD:35mm
可裝各式CCD作影像擷取，影像量測等功能

1. 機構規格：
 600x400x150mm行程
 Hiwin精密級線性滑軌
 鋁合金硬陽基座平台
 X/Y軸快速移動設計
 Z軸可拆式設計
2. 光學規格：NIKON SMZ745 或SZ45
 無段鏡頭 : 0.65X~5.0X 或0.67X~4.5X段連續變焦
 廣角目鏡 : 10X (6.5X~50X)或(6.7X~45X)
 觀察鏡筒 : 45˚傾斜度
 工作距離 : 115mm或100mm
 高亮度60顆LED環狀光源組

金相清潔度自動檢測系統,WAFER 清潔度自動檢查儀
自動檢查wafer 髒污，瑕疵。

Nikon SMZ25,SMZ18研究級立體顯微鏡結合宏觀與微觀成像於一身，無論是單細胞還是個體觀察都具有無與倫比的效果與方便操作。 Nikon獨家完美變焦系統提供全球第一25:1的最大變倍比（0.63x—15.75x），您將見到立體顯微鏡中絕無僅有的高解析度。使用革新光學元件與複眼透鏡技術，即使在弱激發光的應用中亦能提高信噪比獲得清晰的螢光圖像。此外，在低倍率下SMZ25具有35mm的視野使其可拍攝到均勻照明的整個35mm培養皿。

NIKON LV100ND NIKON LV100DAU金相顯微鏡
特點
• 比較傳統只用對比偵測方式 LV - DAF 對焦範圍更大；特別是應用於 LCD 基板，可以更快速對焦。
• LV - DAF 使用白色的 LED 光源，可隨著待測物對光線反射率的強弱而自行調整自動對焦之燈源亮度。
• 提供明視野，暗視野及干涉相位差之觀察，可選擇反射式(上光源)及穿透式(上光源)之燈源。
• 自動程式化調整，可依照產品種類之不同設定 10 組最適合之參數狀態；設定簡易快速。
• LV - DAF 可經由 USB 或 RS232 port 由電腦控制或由 Nikon DS - L4 數位照相系統驅動。
• LV - DAF 可搭配其他 Nikon LV 系列產品使用；當結合 Nikon 特有的 LV - ECON 使用時，可觀察特定之待測物並將其調整至最適狀態。
• Nikon 提供 SDK(software development kit：軟體開發套件)，可輕易整合或支援不同系統及客製化機台使用。
規格
偵測系統：Nikon 複合式自動對焦系統結合裂隙光學投影及對比偵測。
• 自動對焦光源：近似 IR LED(λ = 770nm)。
• 物鏡:CFI60,2.5X–100X , LCD 檢測專用 CR 物鏡。
• 自動對焦模式：連續模式和搜尋模式。
• 對焦範圍：2.5X 物鏡 – 5.5mm 以上；5X 物鏡 – 4.5mm 以上。
• 10X 物鏡 – 1.3mm 以上；20X 物鏡 – 320um 以上。
• 50X 物鏡 – 50um 以上；100X 物鏡 – 10um 以上。
• 對焦時間：小於 0.7 秒(20X 物鏡時在 200um 內無搜尋功能)。
• 對焦精度(重現性)：對焦深度小於 1 / 2。
• 自動對焦特點：使用自動對焦時，能精確調整對焦位置。
• 最小解析度：0.05um。
• 傳輸方式：USB，RS232，paralle I / O。
• 電源需求：100 – 240 V AC；1.0A；50 / 60 Hz。


運用
金相顯微鏡的用途 無論是光學型還是數位型，金相顯微鏡幾乎可用於任何需要觀察光滑金屬表面的行業或研究領域。 包括冶金學、礦物學和寶石學。 製造商還可利用數位或光學金相顯微鏡來檢查材料和元件是否有缺陷或磨損跡象

OLYMPUS SZ51

Nikon SMZ800N 高級立體顯微鏡

SMZ800N 提供更高的放大倍率，可以對微小結構進行高分辨率觀察。 結合新的物鏡系列，完全消除面差及超低散射物鏡，景深大 ，高倍時影像不扭曲。平行光學設計是工業、半導體之研究級的好夥伴。
• 連續變倍：1X - 8X，變焦比 8：1，總倍率 5X ~ 480X。
• 每段倍率都有定位點，能精確精度校正，以利量測工件尺寸。
• 有二眼及三眼兩種系統可供選擇，三眼可接攝影機。
• 高工作距離(W.D.)：78mm（顯微鏡下緣至工件表面距離）。
• 大視野 10X 目鏡視野：22mm。
• 長景深，提供優異立體效果，高倍時影像不扭曲。
• 影像清晰明亮，色彩逼真，並可搭配外接影像達到更好的分析功能。
• 可搭配不同平台：大尺寸平台、旋臂式支架、移動式平台、量測式平台等等。
• 可搭配各式燈源：LED 環形燈源、同軸光源、LED 冷光燈源系統等等。
• 人體工學設計，目鏡筒具有多種傾角，便於觀察。 它們為每個用戶提供最佳的視線水平。

NIKON SMZ1500