金相顯微鏡,光學顯微鏡,NIKON,OLYMPUS,AIXON,TOMAS

優勢
NX-43M 編碼型金相顯微鏡，將硬體設計與影像分析軟體整合一起，螢幕直接顯示物鏡的放大倍率，切換倍率時也能自動調整軟體中記錄的校正值，杜絕忘記切換軟體倍率所造成的測量錯誤。
NX-43M 亮度控制記憶功能，能夠記憶在使用每個物鏡時的照明亮度，當不同物鏡相互轉換時， 自動對光強進行調節，減少視覺疲勞，提高工作效率。
光學系統 : 無限遠色差校正光學系統
目鏡 : 超高解析視野平場目鏡10X/23mm，視度可調
物鏡 : 明暗視野半複消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X
鼻輪 : 明暗視野5孔電動
基座：。平台大小：240x175mm
工作台面：135x125mm
玻璃台面：101x101mm
移動範圍：75x50mm
粗調行程: 粗調行程30mm,微調精度0.001mm
防止下滑的調節鬆緊裝置和隨機上限位元裝置。
內置100-240V寬電壓系統，採用數字調光，具有光強設定與復位功能。

商品說明:
光學系統 : 無限遠色差校正光學系統
目鏡 : 超高解析視野平場目鏡10X/25mm，視度可調
物鏡 : 明暗視野半複消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X
鼻輪 : 明暗視野5孔電動
基座：
100x100mm, 150x100mm, 200x150mm, 355x300mm。
粗調行程25mm, 微調精度0.001mm。
防止下滑的調節鬆緊裝置和隨機上限位元裝置。
內置100-240V寬電壓系統，採用數字調光，具有光強設定與復位功能。

產品說明
物鏡種類 ( U-Type 金相物鏡模組 / T-Type 單鏡頭模組 )
MM-400 是創新設計的量測型顯微鏡，專為工業測量和圖像分析而設計。於載物台 X、Y 軸安裝精密光學尺，藉由載物台位移，光學尺與讀取頭即可讀取出相對位移的距離，提供跨視野量測的限制，在科技產業不斷日新月異，更高階、更微小化的線路或精密製程中更是不
可或缺的量測設備，MM-400 更提供了量測 Z 軸需求的相對機型，以滿足各行業不同需求的各項量測數據。

U-Type ( NIKON 金相物鏡模組)
新款測量顯微鏡可以搭配一個 TTL 雷射 AF 以或另一新型輔助對焦結構 ，以提供更清晰和更精確的對焦模式，使 Z 軸更簡便提升高精度量測，搭配 NIKON 金相光學模組的放大倍率，更可以利用高倍率觀察，實現明暗視野、偏光、微分干涉的多種觀察方式組合。並利用高倍率物鏡景深短的特性，可計算出部件高低差異的量測數值。

載台為:8×6 B Stage ( 200 x 150 mm ) 量測行程。
亦可搭配台製載物

產品優勢
★ 業界最優異的量測顯微鏡。
★ 優異且清晰的光學成像，穩定可靠的載物台精度。
★ 非接觸式 Z 的高度量測。
★ 各種照明方式及設備，因應各種工件的變化性。
★ 支援更大量測行程的載物台 ( For MM-800 系列 )。
★ 搭配工具顯微鏡專用量測軟體可輕鬆完成各項量測工作，提升工作效率。
產品說明
物鏡種類 ( U-Type 金相物鏡模組 / T-Type 單鏡頭模組 )
MM-400 是創新設計的量測型顯微鏡，專為工業測量和圖像分析而設計。於載物台 X、Y 軸安裝精密光學尺，藉由載物台位移，光學尺與讀取頭即可讀取出相對位移的距離，提供跨視野量測的限制，在科技產業不斷日新月異，更高階、更微小化的線路或精密製程中更是不可或缺的量測設備，MM-400 更提供了量測 Z 軸需求的相對機型，以滿足各行業不同需求的各項量測數據。
U-Type ( NIKON 金相物鏡模組)
新款測量顯微鏡可以搭配一個 TTL 雷射 AF 以或另一新型輔助對焦結構 ，以提供更清晰和更精確的對焦模式，使 Z 軸更簡便提升高精度量測，搭配 NIKON 金相光學模組的放大倍率，更可以利用高倍率觀察，實現明暗視野、偏光、微分干涉的多種觀察方式組合。並利用高倍率物鏡景深短的特性，可計算出部件高低差異的量測數值。

可以安裝在
O lympus N i kon Z e iss L e ica 等系列所有款式正立顯微鏡
用途
常規用途：
DAPI 、 FITC 、 TsRED 螢光檢測
光源類型：紫外光 UV 波段、藍光 B 波段、綠光 G 波段
通道
: 單光源 , 雙光源 , 三光源
特色
反射光照明系統

輔助對焦系統,對焦符號 安裝於高倍顯微鏡，透過半月形符號去輔助對焦，讓Z軸量測精度2um以內

Standard working distance series / long working distance
series objectives (optional);
 Imaging light path: 1X ( Tube lens focal length 180 mm ) ,
different magnifications can be customized;
 Imaging light path image surface size: 25mm
 Imaging light path spectral range: visible light;
 Camera interface: C/M42/M52, etc. optional;
 Lighting method: Kohler lighting
 Lighting source: 10W white / blue LED lighting optional;

符合 SEMI S2 / S8 CE及 UL 國際規範標準，專為無塵室工作環境下降低晶圓樣本受汙染破損之風險機率，採用先進的光學成像技術能力及舒適人體工學設計大型載物台專用 300 x 300mm 機種
MX63 光學顯微鏡系統透過最佳化設計，運用於最大尺寸 300mm 的晶圓、17吋以上平板顯示器、印刷電路板及其他大尺寸樣品的高質量觀察檢測

採用的模組化設計，讓操作人員選擇所需的組配件可訂制化的光路光學系統
符合人體工學設計，提高品檢製造上工作效率並做到操作人性化及舒適性
搭載 PRECiV 影像軟體從取樣、觀察拍照、測量、記錄到建立流暢精準觀測報告
暗場觀察 MIX 其他觀察方法 讓不可見影像清晰可見

明場、螢光或偏光方式結合生成獨特影像，能夠看到以前傳統顯微鏡難以看到的缺陷
暗場觀察的 LED 照明裝置具有照射 4 種象限可變換照射方向，減少樣品光暈使樣本表面紋理層次明顯可見

特點
• 比較傳統只用對比偵測方式 LV - DAF 對焦範圍更大；特別是應用於 LCD 基板，可以更快速對焦。
• LV - DAF 使用白色的 LED 光源，可隨著待測物對光線反射率的強弱而自行調整自動對焦之燈源亮度。
• 提供明視野，暗視野及干涉相位差之觀察，可選擇反射式(上光源)及穿透式(上光源)之燈源。
• 自動程式化調整，可依照產品種類之不同設定 10 組最適合之參數狀態；設定簡易快速。
• LV - DAF 可經由 USB 或 RS232 port 由電腦控制或由 Nikon DS - L4 數位照相系統驅動。
• LV - DAF 可搭配其他 Nikon LV 系列產品使用；當結合 Nikon 特有的 LV - ECON 使用時，可觀察特定之待測物並將其調整至最適狀態。
• Nikon 提供 SDK(software development kit：軟體開發套件)，可輕易整合或支援不同系統及客製化機台使用。
規格
• 偵測系統：Nikon 複合式自動對焦系統結合裂隙光學投影及對比偵測。
• 自動對焦光源：近似 IR LED(λ = 770nm)。
• 物鏡:CFI60,2.5X–100X , LCD 檢測專用 CR 物鏡。
• 自動對焦模式：連續模式和搜尋模式。
• 對焦範圍：2.5X 物鏡 – 5.5mm 以上；5X 物鏡 – 4.5mm 以上。
• 10X 物鏡 – 1.3mm 以上；20X 物鏡 – 320um 以上。
• 50X 物鏡 – 50um 以上；100X 物鏡 – 10um 以上。
• 對焦時間：小於 0.7 秒(20X 物鏡時在 200um 內無搜尋功能)。
• 對焦精度(重現性)：對焦深度小於 1 / 2。
• 自動對焦特點：使用自動對焦時，能精確調整對焦位置。
• 最小解析度：0.05um。
• 傳輸方式：USB，RS232，paralle I / O。
• 電源需求：100 – 240 V AC；1.0A；50 / 60 Hz。

光學系統 無限遠色差校正光學系統
鏡筒 30°傾斜，無限遠鉸鏈三眼觀察頭，瞳距調節：54mm~75mm
單邊視度調節：±5屈光度，切換分光比R:T=100：0或50：50
目鏡 高眼點大視野平場目鏡PL10 /22mm
物鏡
LMPlan 5x N.A.=0.15 W.D.=10.8mm
LMPlan 10x N.A.=0.30 W.D.=10.0mm
LMPlan 20x N.A.=0.45 W.D.=4.00mm
LMPlan 50x N.A.=0.15 W.D.=7.90mm
鼻輪 內定位五孔鼻輪
粗微 調焦機構
反射基座，低手位粗微同軸調焦機構，粗調行程28mm，微調精度0.002mm。
帶有防止下滑的調節鬆緊裝置和隨機上限位元裝置。帶平台位置上下調節機構，最大樣品高度28mm
載物台
雙層機械移動平台，低手位X、Y方向同軸調節；平台面積175X145mm
移動範圍：76mmX42mm可配反射用金屬載物台板，透反兩用玻璃載物台板
上光源: 5W LED
底部光源: 5W LED，
聚光鏡
透射用消色差聚光鏡(N.A 0.9)，帶可變孔徑光欄，中心可調
其他附件
透射用濾色片：LBD濾色片
攝影攝像附件：0.5X C-Mount

OLYMPUS 金相顯微鏡
BX51/BX51M,BX53/BX53M,MX51,BX41M-LED
E X C E L L E N T O P T I C S
新一代UIS2光学系统，采用波前像差控制技术确保了
世界最高等级的成像。
完美灵活的显微镜性能，
确保多种检验观察法的卓越成效
BX2M*/MX51是唯一具备载物台在XY方向上的移动距离从50mm到150mm功能的显微镜组。
突出的UIS2无限远校正光学系统特性。
为所有检验观察法需求提供出色的图像清晰度和极高的对比度。
便于组装丰富多彩的附件，确保极其灵活的系统多用性
布局合理适于超群的操作。
推出与镜臂合为一体的反射光照明装置。

NIKON LV-150,NIKON LV150NL,LV150NA 金相顯微鏡
特點
• 比較傳統只用對比偵測方式 LV - DAF 對焦範圍更大；特別是應用於 LCD 基板，可以更快速對焦。
• LV - DAF 使用白色的 LED 光源，可隨著待測物對光線反射率的強弱而自行調整自動對焦之燈源亮度。
• 提供明視野，暗視野及干涉相位差之觀察，可選擇反射式(上光源)及穿透式(上光源)之燈源。
• 自動程式化調整，可依照產品種類之不同設定 10 組最適合之參數狀態；設定簡易快速。
• LV - DAF 可經由 USB 或 RS232 port 由電腦控制或由 Nikon DS - L4 數位照相系統驅動。
• LV - DAF 可搭配其他 Nikon LV 系列產品使用；當結合 Nikon 特有的 LV - ECON 使用時，可觀察特定之待測物並將其調整至最適狀態。
• Nikon 提供 SDK(software development kit：軟體開發套件)，可輕易整合或支援不同系統及客製化機台使用。
規格
偵測系統：Nikon 複合式自動對焦系統結合裂隙光學投影及對比偵測。
• 自動對焦光源：近似 IR LED(λ = 770nm)。
• 物鏡:CFI60,2.5X–100X , LCD 檢測專用 CR 物鏡。
• 自動對焦模式：連續模式和搜尋模式。
• 對焦範圍：2.5X 物鏡 – 5.5mm 以上；5X 物鏡 – 4.5mm 以上。
• 10X 物鏡 – 1.3mm 以上；20X 物鏡 – 320um 以上。
• 50X 物鏡 – 50um 以上；100X 物鏡 – 10um 以上。
• 對焦時間：小於 0.7 秒(20X 物鏡時在 200um 內無搜尋功能)。
• 對焦精度(重現性)：對焦深度小於 1 / 2。
• 自動對焦特點：使用自動對焦時，能精確調整對焦位置。
• 最小解析度：0.05um。
• 傳輸方式：USB，RS232，paralle I / O。
• 電源需求：100 – 240 V AC；1.0A；50 / 60 Hz。


運用
金相顯微鏡的用途 無論是光學型還是數位型，金相顯微鏡幾乎可用於任何需要觀察光滑金屬表面的行業或研究領域。 包括冶金學、礦物學和寶石學。 製造商還可利用數位或光學金相顯微鏡來檢查材料和元件是否有缺陷或磨損跡象